真空电镀是一种高科技表面处理技术,可以在真空环境下将金属、非金属等材料镀上薄膜,具有非常高的光学、电学和化学性能,下面同远表面处理小编来讲解一下。 一、基本原理 真空电镀的原理是将待镀物放入真空室中,然后加热到一定温度,使得金属或非金属材料处于蒸发状态。蒸发出的材料会在真空环境下沉积在待镀物表面,形成薄膜。这种沉积过程是通过物质的高速活动和碰撞来实现的。真空电镀的成膜速率和膜的品质取决于真空质量、材料的纯度、温度和沉积时间等因素。 二、过程步骤 1. 准备工作:将待镀物表面清洗干净,以去除油脂、污垢等杂质。 2. 进入真空室:将待镀物放入真空室中,并将室内真空抽取至一定的真空度。 3. 加热蒸发:对要镀的金属或非金属材料进行加热,使其处于蒸发状态。 4. 沉积:蒸发出的材料在真空环境中飞散并在待镀物表面沉积,形成薄膜。 5. 调整膜厚:通过调节加热时间、升温速率、真空度等参数来控制膜的厚度。 6. 涂覆保护层:在薄膜表面涂覆一层保护层,以保护膜的品质和稳定性。 7. 取出待镀物:待镀物完成后,取出真空室,进行后续处理。 三、优点 真空电镀技术具有以下优点: 1. 镀层质量高:真空电镀得到的薄膜具有非常高的质量和稳定性,表面光滑,无孔、无气泡。 2. 镀层厚度可控:可以根据需要控制膜的厚度和形状,满足各种应用要求。 3. 镀层范围广:可以对各种材料进行真空电镀,包括金属、非金属、陶瓷、塑料等。 深圳市同远表面处理有限公司,专业从事SMD原件电容、电感、电阻等电子元器件的镀镍,镀银及镀金业务,专业承接通讯光纤模块、通讯电子元部件领域中、高端产品加工电镀业务,同时从事连接头、异形件的电镀,滚镀等业务。 # J6 x9 b* R+ e/ d4 M( G
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